Sasaran Bulat Titanium

Sasaran pelapisan adalah sumber sputtering yang disemprotkan ke substrat untuk membentuk lapisan fungsional melalui sputtering magnetron atau sistem pelapisan lainnya dalam kondisi proses yang sesuai. Dengan kata lain, material sasaran adalah material sasaran pemboman partikel energi muatan berkecepatan tinggi, yang digunakan dalam senjata laser berenergi tinggi, kepadatan daya yang berbeda, bentuk gelombang keluaran yang berbeda, panjang gelombang laser yang berbeda, dan interaksi material sasaran yang berbeda, akan menghasilkan efek mematikan dan merusak yang berbeda.

Pembuatan target sputtering titanium meliputi persiapan bubuk bahan baku, pemanasan awal, pengepresan panas, pemrosesan, dan perawatan permukaan. Persiapan bahan baku merupakan kunci untuk memastikan kualitas target sputtering titanium. Pemanasan awal dan pengepresan panas merupakan langkah proses penting untuk pembuatan target sputtering titanium, yang melaluinya diperoleh material yang seragam dan padat untuk memastikan sifat fisik dan sifat kimia target. Pemrosesan meliputi pemotongan, pembentukan, dan pemolesan. Perawatan permukaan meliputi pembersihan, pasivasi, pengemasan, dll.

Dilengkapi dengan proses canggih, yang memiliki layanan lebih lama. Karena kinerjanya yang tinggi, target bulat titanium memainkan peran penting dalam perangkat pemisahan semikonduktor, tampilan panel datar, film elektroda penyimpanan, pelapisan benda kerja, industri pelapisan kaca, dll.

Target bulat titanium memiliki berbagai macam kegunaan karena celah pita yang lebar, konstanta dielektrik yang rendah, dan stabilitas suhu. Lapisan tipis tersebut terutama disiapkan dengan sputtering magnetron, di mana material target merupakan bahan baku dasar yang penting dalam proses pelapisan sputtering. Dilengkapi dengan teknologi penyemprotan plasma supersonik yang sangat baik, ia memiliki suhu sumber panas yang tinggi dan atmosfer udara inert. Jarak penyemprotan yang pendek. Partikel-partikel tersebut terbang dalam jet plasma dengan kecepatan tinggi, kecil kemungkinannya untuk teroksidasi dalam medium, dengan keuntungan untuk menyemprotkan bubuk titanium yang mudah teroksidasi.

Titik leleh tinggi: titik leleh titanium adalah 1668 derajat, sehingga target titanium memiliki kinerja suhu tinggi yang sangat baik.

Ketahanan korosi yang baik: titanium memiliki ketahanan korosi yang baik, dan dapat menahan korosi asam, alkali, dan zat kimia lainnya, sehingga dapat digunakan dalam elektroplating, elektrolisis, pelapisan vakum, dan industri lainnya.

Stabilitas yang baik: titanium lebih stabil secara kimia dan dapat mempertahankan kinerja yang stabil di lingkungan suhu tinggi, tekanan tinggi, dan gas inert, sehingga dapat digunakan untuk menyiapkan beberapa bahan di bawah suhu tinggi, tekanan tinggi, dan gas inert.

Konduktivitas listrik yang baik: target titanium merupakan konduktor listrik yang baik, sehingga dapat digunakan untuk menyiapkan komponen elektronik, sel fotovoltaik, perangkat mikroelektronik, dll. Aplikasi: Pemisahan semikonduktor, bahan pelapis film, pelapisan elektroda penyimpanan, pelapisan sputtering, pelapisan permukaan, kacamata, elektronik, optoelektronik, teknologi informasi, kimia, kedokteran, dan kedirgantaraan.

Tag populer: target bulat titanium, produsen target bulat titanium Cina, pemasok, pabrik, batang pengisi titanium pengelasan tig, titanium perlengkapan, Titanium Angle Bar, Baut titanium risiko, Baut sepeda motor Titanium, Jelaskan logam non ferrous